退火炉是在半导体器件制造中使用的一种工艺，其包括加热多个半导体晶片以影响其电性能，热处理是针对不同的效果而设计的。

可以加热晶片以激活掺杂剂，将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面，使致密沉积的薄膜，改变生长的薄膜的状态，修复注入的损伤，移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶圆衬底。

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光亮退火炉为中等工业窑炉，呈长条形，车辆厂锻冶车间车轴连续光亮退火炉原选用燃油亚高速烧嘴，首要用于火车车轴加热铸造后停止热处置，是车辆厂锻冶车间首要设备之一。
优点运用便当，习气消费环境；炉膛内升温矫捷且各段温度平均；炉体大修期确保五年以上，且炉门、烧嘴等易损部件维修便当。
缺陷设备耗油量大，效率低，环境污染严重；由推钢轨道等惹起的缺点多，维修艰难，影响了消费；自动化控制水平低，废品率高，普通在12%摆布，改良措施改造后的光亮退火炉的炉温分为三区，其间工件由推钢机推入炉膛一区--加热区。
有两边墙上下错列安顿的四只烧嘴，轨道由耐火砖砌成的拱支承，使工件可双面 加热，再向前是二区和三区--恒温区，在两边墙同高度错列安顿四个烧嘴。八只烧嘴均选用低压涡流烧嘴，一区和二区之间设有距离梁，在炉子前后顶部配有两台 复合式金属换热器。
两边炉墙，炉底均选用砖砌结构，炉顶用耐火纤维毡制成，选用一台高压风机一同供应助燃风和用于排烟的引射风，在煤气总管，空气总管上设有调理阀和流量孔板，在引射风总管上也设有调理阀，一同装备了一套抢先的微机控制系统，显现仪表以及维护设备等。