退火炉是在半导体器件制造中使用的一种工艺，其包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。热处理是针对不同的效果而设计的。可以加热晶片以激活掺杂剂，将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面，使致密沉积的薄膜，改变生长的薄膜的状态，修复注入的损伤，移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶圆衬底。

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用途：各种金属机件和材料的回火、淬火、预热等热处理
特点：
1、电炉设有热风循环装置使炉温均匀，工件受热均匀；
2、电炉装载量大、生产率高，适用于各种类型的　机件回火、淬火、预热用；
3、电炉炉衬采用全纤维结构，提高炉体保温性能，节约能源，降低生产成本；
4、电　炉装御料方便，操作条件好；
5、炉门为前后双开式，２只装料台车轮流工作，节约能量并提高效率，操作方便；　
6、电炉设有连锁保护装置，可防止因误操作而发生的故障及事故；
7、无污染，环保效益好。